用于拉制单晶硅的低能耗热场

摘要

本实用新型涉及太阳能行业或半导体行业的硅单晶制造领域，尤其涉及一种用于拉制单晶硅的低能耗热场，包括设置在炉体内壁处的保温筒，加热器、石英坩埚、托碗、托座和托杆，加热器设置在保温筒的内圈，石英坩埚设置在加热器的内腔，石英坩埚的外部包覆有托碗，托座安装在托碗的底部并由托杆支撑，在石英坩埚的上部设置有热屏，热屏分为内热屏和外热屏，内热屏与外热屏之间具有厚度为35～80mm的绝热层。本实用新型的用于拉制单晶硅的低能耗热场通过在内、外热屏之间增设绝热层，有效的阻止了热量从热屏向上炉腔和晶体的传递，显著降低了拉晶能耗，本实用新型还能提高拉晶速度，提高成品质量，延长热场零部件使用寿命，降低成本。

主权项

一种用于拉制单晶硅的低能耗热场，包括设置在炉体内壁处的保温筒(1)，加热器、石英坩埚(2)、托碗(3)、托座(4)和托杆(5)，加热器设置在保温筒(1)的内圈，石英坩埚(2)设置在加热器的内腔，石英坩埚(2)的外部包覆有托碗(3)，所述的托座(4)安装在托碗(3)的底部并由托杆(5)支撑，其特征在于：在石英坩埚(2)的上部设置有热屏，所述的热屏分为内热屏(6‑1)和外热屏(6‑2)，内热屏(6‑1)与外热屏(6‑2)之间具有厚度为35～80mm的绝热层(7)。