发明名称 显影装置及显影方法
摘要 将曝光完毕的基板保持于旋转吸盘并使其绕铅直轴旋转,一边从显影液喷嘴喷出显影液,一边从晶片外缘朝向部移动显影液喷嘴,由此向晶片表面供给显影液,其中所述显影液喷嘴具有纵长方向朝向晶片半径方向的垂直方向的狭缝状的喷出口。与使用具有小径圆形喷出口的喷嘴的情况相比,可以加快喷嘴的移动速度,实现显影时间的缩短。再者,由于可以减小基板上的显影液膜的厚度,所以可以节约显影液。
申请公布号 CN101697065B 申请公布日期 2012.07.04
申请号 CN200910205218.X 申请日期 2004.12.24
申请人 东京毅力科创株式会社 发明人 大河内厚;山本太郎;竹口博史;京田秀治;吉原孝介
分类号 G03F7/30(2006.01)I 主分类号 G03F7/30(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 杨楷
主权项 一种显影装置,其特征在于,具备:基板保持部,水平地保持具有曝光了的抗蚀剂的基板;旋转驱动装置,使保持基板的基板保持部绕铅直轴旋转;显影液喷嘴,具有细长狭缝状的喷出口,朝向基板喷出显影液,所述狭缝状喷出口长度为8‑15mm且宽度为0.1‑1mm,所述狭缝状喷出口的长度方向大致与基板的半径方向一致;移动装置,具有支承上述显影液喷嘴的喷嘴支承部,并且使上述显影液喷嘴大致沿基板的半径方向移动;使基板以500rpm以上的旋转速度绕铅直轴旋转,并且一边从上述喷出口喷出带状的显影液一边从基板外侧朝向中央部上方移动显影液喷嘴,向基板表面螺旋状供给显影液,之后在显影液喷嘴静止于基板中央部上方的状态下,向旋转的上述基板的中央部供给显影液。
地址 日本东京都