发明名称 深宝石蓝反射色的低辐射镀膜玻璃及其生产方法
摘要 本发明涉及一种深宝石蓝反射色的低辐射镀膜玻璃及其生产方法。它需要解决的技术问题是提供颜色鲜明耐久、从不同角度观察具有稳定反射色、且具有低辐射特性的深宝石蓝反射色镀膜玻璃。本发明以玻璃为基片(1),玻璃单面依次镀覆有氮化硅底层(2),功能层(3)和保护层(4),采用真空磁控溅射技术逐层沉积在玻璃基片表面,其特征在于:所述功能层(3)从内到外依次为铬阻挡层(3-1)、镍铬阻挡层(3-2)、银层(3-3)、铬层或氧化镍铬复合物层(3-4)。
申请公布号 CN101723602B 申请公布日期 2012.07.04
申请号 CN200910311988.2 申请日期 2009.12.22
申请人 浙江中力节能玻璃制造有限公司 发明人 汤传兴;龙霖星
分类号 C03C17/36(2006.01)I 主分类号 C03C17/36(2006.01)I
代理机构 杭州杭诚专利事务所有限公司 33109 代理人 俞润体
主权项 一种深宝石蓝反射色的低辐射镀膜玻璃,以玻璃为基片(1),玻璃单面依次镀覆有氮化硅底层(2),功能层(3)和保护层(4),采用真空磁控溅射技术逐层沉积在玻璃基片表面,其特征在于:所述功能层(3)从内到外依次为铬阻挡层(3‑1)、镍铬阻挡层(3‑2)、银层(3‑3)、铬层或氧化镍铬复合物层(3‑4);其中所述氮化硅底层(2)厚度为20~90nm;所述铬阻挡层(3‑1)厚度为3~5nm,所述镍铬阻挡层(3‑2)厚度为3~5nm,所述银层(3‑3)的厚度为10~15nm,所述铬层或氧化镍铬复合物层(3‑4)的厚度为3~8nm;所述保护层(4)的厚度为20~90nm;它选自金属氧化物层、金属氮化物层,氮化硅层或高含硅量合金的氮化物层中的一种,其中高含硅量合金,是指硅含量在90%以上的合金;所述的金属氧化物层、金属氮化物层或高含硅量合金的氮化物中的金属选自锡、钛或铝。
地址 311217 浙江省杭州市萧山区临江工业园区中力控股集团
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