一种在制造光罩时电浆蚀刻一铬层的方法

摘要

在此提供一种蚀刻一铬层的方法。在一实施例中，该蚀刻一铬层的方法包括在一蚀刻腔室中提供一薄膜叠层，该薄膜叠层具有穿过一图案化层而部分露出的铬层；提供至少一含卤素的制程气体至一制程腔室中；以多个功率低于600W的脉冲来施加偏压至制程腔室中位于一基材支撑上的该层；及经由一图案化遮罩来蚀刻该铬层。本案所述之以电浆蚀刻一铬层的方法特别适用于制造光罩。