发明名称 |
光阻保护膜形成用组成物及使用此组成物之光阻图案的形成方法 |
摘要 |
【课题】提供一种光阻保护膜形成用组成物、及使用此光阻保护膜形成用组成物以形成光阻图案之方法,其对于光阻膜之损伤少、能形成良好的矩形形状之光阻图案,且不论光阻组成物中的树脂为何种构造都能够使用而没有任何限制对于其使用上均无限制。;【解决手段】一种光阻保护膜形成用组成物,其含有(a)硷可溶性聚合物、及(b)由醚类溶剂与醇类溶剂之混合溶剂所组成之有机溶剂,以及使用该光阻保护膜形成用组成物之光阻图案的形成方法。 |
申请公布号 |
TWI367396 |
申请公布日期 |
2012.07.01 |
申请号 |
TW096134999 |
申请日期 |
2007.09.19 |
申请人 |
东京应化工业股份有限公司 日本 |
发明人 |
高山寿一;石塚启太;前盛谕;横井滋 |
分类号 |
G03F7/11;H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/11 |
代理机构 |
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代理人 |
蔡坤财 台北市中山区松江路148号11楼;李世章 台北市中山区松江路148号11楼 |
主权项 |
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地址 |
日本 |