发明名称 光阻保护膜形成用组成物及使用此组成物之光阻图案的形成方法
摘要 【课题】提供一种光阻保护膜形成用组成物、及使用该光阻保护膜形成用组成物之光阻图案的形成方法,该光阻保护膜形成用组成物对光阻膜的损伤少、能够形成良好的矩形形状之光阻图案,且不论光阻组成物中的树脂为何种构造都能够使用而没有任何限制。;【解决手段】一种光阻保护膜形成用组成物,其含有(a)硷可溶性聚合物、及(b)醚类溶剂,以及使用该此组成物之光阻图案的形成方法。
申请公布号 TWI367395 申请公布日期 2012.07.01
申请号 TW096134998 申请日期 2007.09.19
申请人 东京应化工业股份有限公司 日本 发明人 高山寿一;石塚启太
分类号 G03F7/11;H01L21/027 主分类号 G03F7/11
代理机构 代理人 蔡坤财 台北市中山区松江路148号11楼;李世章 台北市中山区松江路148号11楼
主权项
地址 日本