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发明名称
电浆处理装置、电浆处理方法及记忆媒体
摘要
本发明所揭示之电浆处理装置系包括:处理容器,其收容被处理体;微波产生部,其产生微波;波导,其将由微波产生部所产生之微波朝向处理容器导引;平面天线,其包括具有将被波导所导引之微波朝向处理容器放射之复数个微波放射孔之导体;微波穿透板,其包含电介质,且构成前述处理容器之顶壁,使通过平面天线之微波放射孔的微波穿透;处理气体导入机构,其将处理气体导入处理容器内;及磁场形成部,其设于平面天线之上方并形成磁场于处理容器内,且以该磁场来控制藉由微波在处理容器内所产生之处理气体之电浆特性。
申请公布号
TWI367529
申请公布日期
2012.07.01
申请号
TW097106879
申请日期
2008.02.27
申请人
东京威力科创股份有限公司 日本
发明人
石川拓;户部康弘
分类号
H01L21/31;C23C16/511;H01L21/3065;H05H1/46
主分类号
H01L21/31
代理机构
代理人
陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
地址
日本
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