Verfahren und Vorrichtung zur Abscheidung von Silizium auf einem Substrat

摘要

Ein Verfahren zur Abscheidung von Silizium auf einem Substrat (32) unter Verwendung eines fokussierten Strahls geladener Teilchen (14), bei dem ein siliziumhaltiger Precursor (20) bereitgestellt wird, der durch den Strahl (14) in unmittelbarer Nähe des Substrats (32) dissoziiert wird, soll auf besonders effektive, materialschonende und präzise Weise die Abscheidung von Silizium auf einem Substrat (32) ermöglichen. Dazu wird als Precursor (20) ein Polysilan eingesetzt.