发明名称 |
一种相位移焦距检测光罩及制造方法及检测焦距差的方法 |
摘要 |
本发明公开了一种相位移焦距检测光罩、其制造方法以及使用该相位移焦距检测光罩检测光刻机的焦距差的方法,该相位移焦距检测光罩包括:遮蔽层,包括具有一定宽度的多个透光区域;玻璃层,位于所述遮蔽层上方,并在所述多个透光区域处具有多个开口,其中所述多个开口的宽度为所述多个透光区域的宽度的一半,深度为n*λ/(N-1),λ为入射到所述相位移焦距检测光罩的光在空气中的波长,N为所述玻璃层的折射率,n为正整数。本发明适用于更厚的光刻胶以及更多种类的机台。 |
申请公布号 |
CN102519521A |
申请公布日期 |
2012.06.27 |
申请号 |
CN201110392792.8 |
申请日期 |
2011.11.30 |
申请人 |
上海华力微电子有限公司 |
发明人 |
李文亮;吴鹏 |
分类号 |
G01F1/44(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I |
主分类号 |
G01F1/44(2006.01)I |
代理机构 |
隆天国际知识产权代理有限公司 72003 |
代理人 |
李琳;张龙哺 |
主权项 |
一种相位移焦距检测光罩,包括:遮蔽层,包括具有一定宽度的多个透光区域;玻璃层,位于所述遮蔽层上方,并具有与所述多个透光区域连通且对应的多个开口,其中所述多个开口的宽度为所述多个透光区域的宽度的一半,深度为n*λ/(N‑1),λ为入射到所述相位移焦距检测光罩的光在空气中的波长,N为所述玻璃层的折射率,n为正整数。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路497号 |