清洗介电薄膜的设备及方法

摘要

本发明是提供一种清洗介电薄膜的设备及方法。在一个实施例中，清洗介电薄膜的设备包括：腔室主体，适以将基材支撑于其内；远端等离子体源，适以提供多个反应性自由基至腔室主体；通道，将远端等离子体源耦接至腔室主体；及至少一个磁铁，设置于邻近通道处。在另一实施例中，清洗介电薄膜的方法包括：提供基材，基材设置于处理室内，并具有至少部分暴露的介电层；在远端等离子体源内产生多个反应性自由基；使反应性自由基从远端等离子体源经过通道流入处理室，且通道具有至少一个磁铁设置于邻近所述通道处；以及利用磁性过滤通过通道的反应性自由基。

主权项

一种用于清洗一介电薄膜的设备，包括：一腔室主体，适以将一基材支撑于所述腔室主体内；一远端等离子体源，适以提供多个反应性自由基至所述腔室主体；一通道，是将所述远端等离子体源耦接至所述腔室主体，其中所述通道是至少部分具有一石英衬垫，用以过滤或者降低所述多个反应性自由基的再结合；以及至少一磁铁，设置于邻近所述通道处。