发明名称 | 一种相变随机存储器阵列的制备方法 | ||
摘要 | 本发明属于微纳电子学技术领域,涉及一种简单易行的相变存储器阵列的制备方法,相变随机存储器阵列的每一层均依次经过清洗、匀胶、烘烤、光刻、镀膜和剥离制备获得。相变随机存储器阵列依次包括下电极层、相变层和上电极层;在下电极层与相变层之间,以及相变层和上电极层之间均可以包括绝缘层。本发明只涉及纳米加工技术和薄膜制备方法,器件结构简单,制备方法容易实施,与CMOS制造工艺兼容性好,并且可以实现大容量存储阵列的制备。 | ||
申请公布号 | CN102522500A | 申请公布日期 | 2012.06.27 |
申请号 | CN201110407852.9 | 申请日期 | 2011.12.09 |
申请人 | 华中科技大学 | 发明人 | 缪向水;周娇;周文利 |
分类号 | H01L45/00(2006.01)I | 主分类号 | H01L45/00(2006.01)I |
代理机构 | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人 | 曹葆青 |
主权项 | 一种相变随机存储器阵列的制备方法,其特征在于,相变随机存储器阵列的每一层均依次经过清洗、匀胶、烘烤、光刻、镀膜和剥离制备获得。 | ||
地址 | 430074 湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号 |