带电粒子束光刻系统以及目标定位装置

摘要

一种带电粒子束光刻系统及目标定位装置。带电粒子束光刻系统包括：带电粒子光柱，设置在真空室中，用于将带电粒子束投射到目标上，光柱包括使粒子束在偏转方向上偏转的偏转装置；目标定位装置，包括承载目标的承载件以及承载并沿不同于偏转方向的第一方向移动承载件的工作台，目标定位装置包括使工作台沿第一方向相对于粒子光柱移动的第一致动器、和沿第二方向移动承载件的第二致动器；光柱屏蔽装置，至少部分地屏蔽粒子光柱不受周围的磁场和/或电场影响；承载件可移动地设置在工作台上，目标定位装置包括将承载件相对于工作台保持在第一相对位置中的保持装置；第一致动器设置在光柱屏蔽装置外部，保持装置和第二致动器设置在屏蔽装置内部。

主权项

一种带电粒子束光刻系统，包括：带电粒子光柱，设置在真空室中，用于将带电粒子束投射到目标上，其中，所述光柱包括用于使所述带电粒子束在偏转方向上偏转的偏转装置，目标定位装置，包括用于承载所述目标的承载件、以及用于承载并沿第一方向移动所述承载件的工作台，其中，所述第一方向不同于所述偏转方向，其中，所述目标定位装置包括用于使所述工作台在所述第一方向上相对于所述带电粒子光柱移动的第一致动器、和用于在所述第二方向上移动所述承载件的第二致动器，光柱屏蔽装置，用于至少部分地屏蔽所述带电粒子光柱不受周围的磁场和/或电场的影响，其中，所述承载件可移动地设置在所述工作台上，并且其中，所述目标定位装置包括用于将所述承载件相对于所述工作台保持在第一相对位置中的保持装置，其中，所述第一致动器设置在所述光柱屏蔽装置外部，并且其中，所述保持装置和所述第二致动器设置在所述屏蔽装置内部。