发明名称 СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ПОЛУПРОВОДНИКОВОЙ СТРУКТУРЫ
摘要 Способ изготовления полупроводниковой структуры, включающий кремниевую пластину, отличающийся тем, что после формирования пористого слоя кремния на кремниевой пластине проводят азотирование слоя пористого кремния в среде аммиака при температуре 1000°С в течение 1-2 ч с последующим отжигом при температуре 1200°С в атмосфере аммиака при давлении (9-10)·106 Па.
申请公布号 RU2010152872(A) 申请公布日期 2012.06.27
申请号 RU20100152872 申请日期 2010.12.23
申请人 Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Кабардино-Балкарский государственный университет 发明人 Мустафаев Гасан Абакарович (RU);Мустафаев Абдулла Гасанович (RU);Мустафаев Арслан Гасанович (RU)
分类号 H01L21/00 主分类号 H01L21/00
代理机构 代理人
主权项
地址