发明名称 一种顶栅氧化锌薄膜晶体管的制备方法
摘要 本发明公开了一种顶栅氧化锌薄膜晶体管的制备方法,属于半导体行业、平板显示领域。本发明在顶栅氧化锌薄膜晶体管的制备过程中,将沟道区、栅介质层和栅电极层一起剥离,工艺步骤简单,且沟道层、栅绝缘介质层和栅电极层这三层是在真空条件下连续生长的,节约制造成本,且减小了空气、灰尘等外界杂质对各层薄膜的污染,有效提高氧化锌薄膜晶体管器件的性能。
申请公布号 CN102522337A 申请公布日期 2012.06.27
申请号 CN201110423372.1 申请日期 2011.12.16
申请人 北京大学 发明人 韩德栋;蔡剑;王薇;王亮亮;王漪;张盛东;任奕成;刘晓彦;康晋锋
分类号 H01L21/336(2006.01)I 主分类号 H01L21/336(2006.01)I
代理机构 北京万象新悦知识产权代理事务所(普通合伙) 11360 代理人 贾晓玲
主权项 一种顶栅氧化锌薄膜晶体管的制备方法,包括以下步骤:1)在玻璃衬底上生长透明导电薄膜,然后光刻和剥离,形成源、漏电极;2)甩一层光刻胶,光刻显影,形成沟道区,沟道区内无光刻胶,其余区域被光刻胶覆盖,沟道区与源漏电极相交叠;3)生长一层氧化物半导体层作为沟道层;4)生长一层绝缘介质材料作为栅介质层;5)生长一层导电薄膜作为栅电极,6)将氧化物半导体、绝缘介质材料和导电薄膜一起剥离,形成沟道、栅介质和栅电极;7)生长一层钝化介质层,光刻和刻蚀形成栅、源和漏的引出孔;8)生长一层金属薄膜,光刻和刻蚀形成金属电极和互连。
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