发明名称 用喷头装置实现选择性原子层沉积成膜的方法
摘要 用喷头装置实现选择性原子层沉积成膜的方法,属于薄膜涂层领域。主要解决了现有技术无法对同一基体上所成膜的区域进行选择和不能直接在基体上按照所需要的线路直接生长薄膜的技术难题。该方法首先通过由计算机控制的喷头在基体表面按照设计好的线路进行表面处理,使该线路区域表面具有与其他区域不同的化学键,或呈现不同的导电性,或具有不同的表面极性,或具备不同的表面张力,或具备其他的物理或化学特性差异。该差异使得基体与前躯体接触时能够反应生成不同的薄膜。为提高喷涂线路的效率、该装置可以是一个喷头多个通道,也可以是多个喷头多个通道。具有构思新颖独特、制备方法简单的特点。该方法在芯片制造、电池、太阳能、军事、发动机、医疗等方面会有便捷、广泛的应用。
申请公布号 CN102517566A 申请公布日期 2012.06.27
申请号 CN201110424784.7 申请日期 2011.12.16
申请人 姜谦 发明人 姜谦
分类号 C23C16/52(2006.01)I;C23C16/04(2006.01)I 主分类号 C23C16/52(2006.01)I
代理机构 沈阳维特专利商标事务所(普通合伙) 21229 代理人 甄玉荃
主权项 一种用喷头装置实现选择性原子层沉积成膜的方法,该方法首先通过由计算机控制的喷头在基体表面按照设计好的线路移动进行表面处理,或由计算机控制基体,使基体移动,并由喷头进行表面处理,使该线路区域表面具有与其他区域不同的化学键,或呈现不同的导电性,或具有不同的表面极性,或具备不同的表面张力,或具备其他的物理或化学特性差异,该差异使得基体与前躯体接触时能够反应生成不同的薄膜,以实现通过喷头装置实现选择性原子层沉积成膜的方法,为提高喷涂线路的效率、增加基体表面喷涂线路的种类,该装置可以是一个喷头多个通道,也可以是多个喷头多个通道。
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