| 发明名称 | 含联三吡啶的取代噻咯类化合物及其制备和应用 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种式V所示的含联三吡啶的双边相同取代噻咯类化合物，并公开了所述含联三吡啶的双边相同取代噻咯类化合物的制备方法，以及其作为发光材料的应用。<img file="dda0000114314320000011.GIF" wi="1671" he="722" /> | ||
| 申请公布号 | CN102516284A | 申请公布日期 | 2012.06.27 |
| 申请号 | CN201110389299.0 | 申请日期 | 2011.11.30 |
| 申请人 | 杭州师范大学 | 发明人 | 邱化玉;赵祖金;尹守春 |
| 分类号 | C07F7/10(2006.01)I;C09K11/06(2006.01)I | 主分类号 | C07F7/10(2006.01)I |
| 代理机构 | 杭州天正专利事务所有限公司 33201 | 代理人 | 黄美娟;王兵 |
| 主权项 | 1.如式V所示的含联三吡啶的双边相同取代噻咯类化合物：<img file="FDA0000114314300000011.GIF" wi="1758" he="737" />式V中，R<sub>1</sub>、R<sub>2</sub>各自独立为氢、C1～C10的烷基、C3～C6的环烷基或苯基；R<sub>3</sub>为氢、C1～C10的烷基、C3～C6的环烷基或苯基中的任意一种或两种以上的组合；R<sub>4</sub>为氢、C1～C6的烷基、C3～C6的环烷基或苯基中的任意一种或两种以上的组合；式V中，不同位置的R<sub>3</sub>表示相同的基团，不同位置的R<sub>4</sub>表示相同的基团。 | ||
| 地址 | 310036 浙江省杭州市下沙高教园区学林街16号 | ||