| 发明名称 | 低辐射镀膜玻璃及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种低辐射镀膜玻璃及其制造方法，所述低辐射镀膜玻璃包括玻璃基片和镀制在玻璃基片上的膜系，所述膜系自玻璃基片向外依次包括：第一电介质层、第二电介质层、第一功能层、第一阻挡层、中间电介质组合层、第三电介质层、第二功能层、第二阻挡层、顶层下电介质层、顶层上电介质层。本发明的玻璃产品呈自然色，颜色均一，并且在可见光区透过率高，在近红外区具有低辐射的优点。 | ||
| 申请公布号 | CN102514285A | 申请公布日期 | 2012.06.27 |
| 申请号 | CN201110436649.4 | 申请日期 | 2011.12.23 |
| 申请人 | 林嘉宏 | 发明人 | 林嘉宏 |
| 分类号 | B32B9/04(2006.01)I;B32B15/00(2006.01)I;C03C17/36(2006.01)I | 主分类号 | B32B9/04(2006.01)I |
| 代理机构 | 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 | 代理人 | 董建林 |
| 主权项 | 一种低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片和镀制在玻璃基片上的膜系，其特征在于，所述膜系自玻璃基片向外依次包括：第一电介质层、第二电介质层、第一功能层、第一阻挡层、中间电介质组合层、第三电介质层、第二功能层、第二阻挡层、顶层下电介质层、顶层上电介质层。 | ||
| 地址 | 中国台湾台北市松山区南京东路3段261号 | ||