发明名称 |
一种在铝硅合金上电镀金的镀液配方及其电镀方法 |
摘要 |
本发明公开了一种在铝硅合金上电镀金的镀液配方及其电镀方法,镀液配方其组分及含量为:氰化金钾8~12g/L、磷酸二氢铵20~25g/L、磷酸氢二铵40~45g/L、硝酸铊0.005~0.008g/L。步骤包括铝硅合金前处理、镀铜、镀镍、镀金,本发明通过在铝硅合金上电镀金,既保留了铝硅合金密度小、重量轻、散热好、与陶瓷电路板热匹配性能好等优良特性,又解决了铝硅合金的不可焊接的问题,使其成熟地应用于T/R组件的制作上,极大地提高了T/R组件的性能。通过在铝硅合金电镀金前进行镀铜和镀镍处理,提高了铝硅合金镀金层的性能。 |
申请公布号 |
CN102517614A |
申请公布日期 |
2012.06.27 |
申请号 |
CN201110428760.9 |
申请日期 |
2011.12.20 |
申请人 |
安徽华东光电技术研究所 |
发明人 |
吴华夏;刘劲松;王华;洪火锋;王秀平;胡文晓 |
分类号 |
C25D3/48(2006.01)I;C25D5/44(2006.01)I;C25D5/12(2006.01)I |
主分类号 |
C25D3/48(2006.01)I |
代理机构 |
芜湖安汇知识产权代理有限公司 34107 |
代理人 |
张小虹 |
主权项 |
一种在铝硅合金上电镀金的镀液配方,其组分及含量为:氰化金钾8~12g/L、磷酸二氢铵20~25g/L、磷酸氢二铵40~45g/L、硝酸铊0.005~0.008g/L。。 |
地址 |
241000 安徽省芜湖市弋江区城南高新技术开发区华厦科技园 |