染料敏化半导体双膜片方法

摘要

一种染料敏化半导体双膜片方法，其主要是：将两片半导体膜片的膜面相对并用夹具夹紧构成双膜片，两膜片间隙在0.01-0.50mm之间，将上述双膜片的下端浸入浓度10-7-10-3mol/L光敏染料溶液液面下，而主体部分位于液面上，通过毛细作用原理使染料溶液充满双膜片的间隙，在10-90℃下经过10-30小时取出半导体膜片，用冲洗剂洗掉附在薄膜表面上的多余染料液后，干燥保存。本发明能有效控制染料敏化程度、染料敏化均匀，而且染料利用率高、污染小、成本低、易于工业化。

主权项

一种染料敏化半导体双膜片方法，其特征在于：将两片半导体膜片的膜面相对并用夹具夹紧构成双膜片，两膜片间隙在0.01‑0.50mm之间，将上述双膜片的下端浸入浓度10‑7‑10‑3mol/L光敏染料溶液液面下，而主体部分位于液面上，通过毛细作用使染料溶液自动上升充满两膜片间隙进行染料敏化，在10‑90℃下经过10‑30小时取出半导体膜片，用冲洗剂洗掉附在薄膜表面上的多余染料液后，干燥保存。