曝光方法和装置、以及组件制造方法

摘要

本发明提供一种曝光方法和装置、以及组件制造方法。在载台(WST)的驱动中，通过编码器系统的至少各一个X编码器与Y编码器的三个编码器(Enc1，Enc2及Enc3)测量载台(WST)在移动面内的位置信息，并通过控制装置，以在切换前后维持载台(WST)在移动面内的位置的方式，将用于测量载台(WST)在移动面内的位置的编码器，从编码器(Enc1，Enc2及Enc3)切换至编码器(Enc4，Enc2及Enc3)。因此，即使进行用于载台的位置控制的编码器的切换，也可以在切换前后维持载台在移动面内的位置，正确地进行连续衔接。

主权项

一种曝光装置，透过投影光学系统使基板曝光，其具备：移动体，保持上述基板，至少可移动于与既定平面平行的方向；编码器系统，对与上述既定平面平行配置的格子部，透过多个读头分别从与上述既定平面交叉的方向照射光束，以测量上述移动体在与上述既定平面平行的方向的位置信息，且于上述移动体设有上述格子部和上述多个读头的其中一方；驱动系统，驱动上述移动体，以在上述既定平面移动上述基板；以及控制系统，根据上述测量的位置信息控制上述驱动系统；上述编码器系统，通过上述移动体的移动而使上述多个读头中与上述格子部对向的读头数目变化，且通过上述移动体的移动使上述多个读头中用于上述位置信息的测量的读头切换成其它读头；上述控制系统，是根据以上述切换前使用的读头测量的位置信息，决定待以上述切换后使用的读头测量的位置信息。