一种西瓜陈种子的处理方法

摘要

本发明公开了一种西瓜陈种子的处理方法，包括清洗、干燥、0-2℃低温处理72h、He—Ne激光辐照处理30S，辐射剂量37.6J/cm2、波长632.8nm。本发明具有操作简单、处理量大、易于人工掌握等特点，可有效解决西瓜陈种子萌发力弱、发芽率低、幼苗生长缓慢问题，对西瓜陈种子高效利用以及西瓜工厂化育苗生产具有重要意义。

主权项

一种西瓜陈种子的处理方法，包括如下步骤：    ①清洗：10 ‑ 20℃清水洗涤西瓜陈种子三遍；    ②干燥：自然通风干燥西瓜陈种子 24h – 48h；    ③低温处理：干燥后的西瓜陈种子在0‑2℃处理72h；    ④He‑Ne激光辐照处理：低温处理后的西瓜陈种子经He‑Ne激光辐照处理30S，辐射剂量为37.6J/cm2、波长632.8nm。