管内镀膜设备及镀膜技术

摘要

管内镀膜设备及镀膜技术，属于特殊薄膜制备技术领域。采用磁控溅射镀膜技术，以被镀管的管壁为真空腔的侧壁，两端进行真空密封，并设置排气口和充气管道。放电阴极为圆柱状，与被镀管同轴设置，其内部水冷，但不在其中设置磁体，阴极外表面设置圆柱靶材，与阴极紧配合，或者阴极外表面直接作为靶材。磁体设置在被镀管的外部，即处于大气中。本发明所涉及的设备简单，成本低，适合各类内径大于50mm的管内镀膜，可大规模推广应用。

主权项

管内镀膜设备及镀膜技术，其特征在于：采用磁控溅射镀膜技术，以被镀管的管壁为真空腔的侧壁，两端进行真空密封，并设置排气口和充气管道；放电阴极为圆柱状，与被镀管同轴设置，其内部水冷，但不在其中设置磁体，阴极外表面设置圆柱靶材，与阴极紧配合，或者阴极外表面直接作为靶材；磁体设置在被镀管的外部，即处于大气中。