| 发明名称 | 电感及形成方法 | ||
| 摘要 | 一种电感及形成方法，所述电感包括：衬底，位于所述衬底表面的低K层间介质层，位于所述低K层间介质层上的电感线圈，位于所述电感线圈表面的保护层。由于位于半导体衬底和电感线圈的层间介质层为低K层间介质层，降低了电感线圈和衬底之间的介电常数，降低了所述衬底与电感线圈之间的寄生电容，从而提高了电感的Q值。 | ||
| 申请公布号 | CN102522388A | 申请公布日期 | 2012.06.27 |
| 申请号 | CN201110436853.6 | 申请日期 | 2011.12.22 |
| 申请人 | 上海宏力半导体制造有限公司 | 发明人 | 林益梅 |
| 分类号 | H01L23/64(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I | 主分类号 | H01L23/64(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人 | 骆苏华 |
| 主权项 | 一种电感，包括：衬底，其特征在于，还包括：位于所述衬底表面的低K层间介质层，位于所述低K层间介质层上的电感线圈，位于所述电感线圈表面的保护层。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区浦东张江高科技园区祖冲之路1399号 | ||