发明名称 |
光刻套刻精度的测试图形及测量方法 |
摘要 |
本发明公开了一种光刻套刻精度的测试图形,是由多个长条组成的矩形图形;各个长条内部由多个小矩形构成。本发明还公开了一种光刻套刻精度的测量方法,包括如下步骤:利用激光扫描;探测衍射光。本发明采用衍射原理测量图形,和普通的测量图形相比,衍射光的分布只和整个图形的空间周期相关,而强度与图形的反射率、图形形状、台阶深度、探测光波长等相关。通过使用不同波长的激光进行扫描,可以降低测量信号强度和测量图形制造工艺的相关性,最终提高测量对测量图形的物理特征容忍度。 |
申请公布号 |
CN101435997B |
申请公布日期 |
2012.06.27 |
申请号 |
CN200710094236.6 |
申请日期 |
2007.11.15 |
申请人 |
上海华虹NEC电子有限公司 |
发明人 |
王雷 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01)I;H01L21/66(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 |
上海浦一知识产权代理有限公司 31211 |
代理人 |
周赤 |
主权项 |
一种光刻套刻精度的测试图形,其被对准层的测试图形是由多个长条组成的矩形图形;其特征在于,所述的各个长条内部由多个小矩形构成,各所述小矩形的排列结构使各所述长条分别形成衍射光栅。 |
地址 |
201206 上海市浦东新区金桥出口加工区川桥路1188号 |