发明名称 |
非挥发性记忆体及其制造方法 |
摘要 |
一种非挥发性记忆体,包括一基板、一绝缘层、一电荷储存层、一多层穿隧介电结构及一闸极电极。基板具有一通道区,绝缘层设置于通道区上。电荷储存层设置于绝缘层上,多层穿隧介电结构设置于电荷储存层上,闸极电极设置于多层穿隧介电结构上。 |
申请公布号 |
TWI366893 |
申请公布日期 |
2012.06.21 |
申请号 |
TW097100106 |
申请日期 |
2008.01.02 |
申请人 |
旺宏电子股份有限公司 新竹市新竹科学工业园区力行路16号 |
发明人 |
王嗣裕;吕函庭 |
分类号 |
H01L21/8246;H01L27/112 |
主分类号 |
H01L21/8246 |
代理机构 |
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代理人 |
祁明辉 台北市信义区忠孝东路5段510号22楼之2;林素华 台北市信义区忠孝东路5段510号22楼之2 |
主权项 |
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地址 |
新竹市新竹科学工业园区力行路16号 |