发明名称 非挥发性记忆体及其制造方法
摘要 一种非挥发性记忆体,包括一基板、一绝缘层、一电荷储存层、一多层穿隧介电结构及一闸极电极。基板具有一通道区,绝缘层设置于通道区上。电荷储存层设置于绝缘层上,多层穿隧介电结构设置于电荷储存层上,闸极电极设置于多层穿隧介电结构上。
申请公布号 TWI366893 申请公布日期 2012.06.21
申请号 TW097100106 申请日期 2008.01.02
申请人 旺宏电子股份有限公司 新竹市新竹科学工业园区力行路16号 发明人 王嗣裕;吕函庭
分类号 H01L21/8246;H01L27/112 主分类号 H01L21/8246
代理机构 代理人 祁明辉 台北市信义区忠孝东路5段510号22楼之2;林素华 台北市信义区忠孝东路5段510号22楼之2
主权项
地址 新竹市新竹科学工业园区力行路16号