曝光方法与设备、及装置制造方法

摘要

一种曝光设备包含一照明光学系统，其组构成可使用极紫外光照明一光罩；一投射光学系统，其组构成可将该光罩的图案投射于一基板上；一隔膜，其界定容纳该投射光学系统之第一空间；一第一气体供给装置，其组构成可将第一气体供给至该第一空间；及一第一冷却单元，其组构成可在该第一气体供给装置供给该第一气体至该第一空间之前冷却该第一气体。