| 摘要 |
<p>Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Maskeninspektion sowie eine Maskeninspektionsanlage. Bei einem erfindungsgemässen Verfahren beleuchtet ein Beleuchtungssystem (210, 310, 410, 510) eine Maske (230, 330, 430, 530) mit einem Beleuchtungs-Strahlbüschel (215, 315, 415, 515), und diese Maske (230, 330, 430, 530) wird mit einem Beobachtungs-Strahlbüschel (225, 325, 425, 525) beobachtet, welches auf eine Sensoranordnung (240, 340, 440, 540) gelenkt wird, wobei das auf die Sensoranordnung (240, 340, 440, 540) auftreffende Licht zur Überprüfung des Abbildungseffektes der Maske (230, 330, 430, 530) ausgewertet wird. Das Beleuchtungssystem (210, 310, 410, 510) erzeugt auf der Maske (230, 330, 430, 530) einen beugungsbegrenzten Lichtfleck, wobei bei der Auswertung des auf die Sensoranordnung (240, 340, 440, 540) auftreffenden Lichtes ein endlicher Anteil des unter Erzeugung des Beobach- tungs-Strahlbüschels (225, 325, 425, 525) von der Maske (230, 330, 430, 530) ausgehenden Lichtes außer Betracht bleibt.</p> |
