Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung einer reflexionsmindernden Beschichtung

摘要

Das Verfahren dient zur Herstellung einer reflexionsmindernden Beschichtung auf einem transparenten Substrat (28), bei dem mindestens eine Schicht (29), die Silizium, Sauerstoff, Wasserstoff und Kohlenstoff enthält, in einem Beschichtungsverfahren auf mindestens einer Seite des Substrats (28) abgeschieden wird. In einem anschließenden Verfahrensschritt wird die Schicht (29) mit einem Laser (21) bestrahlt, wobei die Energie des Laserstrahls (25) von der Schicht (29) selbst und nicht vom Substrat (28) absorbiert wird und dadurch der Wasserstoff- und Kohlenstoffgehalt der Schicht (29) in einer chemischen Reaktion vermindert wird. Die Vorrichtung zur Herstellung der reflexionsmindernden Beschichtung eines transparenten Substrats (28) umfasst eine Beschichtungseinheit sowie eine Nachbearbeitungseinheit (40), die eine Lasereinheit (20) umfasst,ührt.