发明名称 Oberflächenprofilmesseinrichtung
摘要 Oberflächenprofilmesseinrichtung zur Messung des Oberflächenprofils eines beweglich montierten Objekts, das eine gekrümmte Oberfläche aufweist, wobei vorgesehen sind: ein Interferenzoptiksystem zur Ausbildung eines Interferenzstreifens von Licht von einer Lichtquelle, das von dem Objekt reflektiert wird, und von Licht von der Lichtquelle, das von einem Bezugskörper (66), der eine ebene Bezugsoberfläche (68, 72) und eine gekrümmte Bezugsoberfläche (70), die an die ebene Bezugsoberfläche angebracht ist, umfasst, reflektiert wird; ein Oberflächenprofilmessabschnitt zur Messung des Oberflächenprofils des Objekts auf der Grundlage des Interferenzstreifens unter Verwendung der gekrümmten Bezugsoberfläche; ein Kondensoroptiksystem zum Sammeln des von dem Objekt reflektierten Lichts; und ein Krümmungsradiusmessabschnitt zur Messung des Krümmungsradius des Objekts auf der Grundlage der Änderung des Lichts, das von dem Kondensoroptiksystem gesammelt wird, während eine Translationsbewegung des Objekts durchgeführt wird.
申请公布号 DE10138656(B4) 申请公布日期 2012.06.21
申请号 DE20011038656 申请日期 2001.08.07
申请人 MITUTOYO CORP. 发明人 NAKAMURA, TAIZO;SARUKI, YOSHIO;NARUMI, TATSUYA;FUKUMOTO, YASUSHI
分类号 G01B9/02;G01B11/255;G01B11/24;G01B11/30 主分类号 G01B9/02
代理机构 代理人
主权项
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