| 摘要 |
Verfahren zum Bereitstellen zumindest eines Kontakts auf einer Rückoberfläche einer Solarzelle mit einem Siliziumsubstrat (2), umfassend ein Auftragen einer Passivationsschicht (3) auf das Siliziumsubstrat (2) und danach ein Bereitstellen zumindest einer Kontaktstelle und ferner ein Bereitstellen einer gemusterten freigelegten Siliziumoberfläche. Dann Auftragen einer Metallschicht (8) und Tempern der Struktur (1), um Metallsilizid (9) zu bilden. Danach enthält das Verfahren ein optionales Entfernen überschüssigen Metalls (8) und schließlich ein Auftragen des Metalls auf das Silizid (9), um zumindest einen Kontakt (10) zu bilden. Eine Solarzelle mit einer Rückoberfläche, wobei die Rückoberfläche einen Kontakt umfasst, der durch das oben genannte Verfahren hergestellt wurde. Ein Kontakt (10) für eine Rückoberfläche einer Solarzelle mit einem Siliziumsubstrat (2), eine amorphe Siliziumschicht (3), die auf dem Siliziumsubstrat (2) aufgetragen ist, eine Reflexionsschicht (6) mit zumindest einer Öffnung (7), die auf der amorphen Siliziumschicht (3) aufgetragen ist, wobei in der zumindest einen Öffnung (7) Silizium (9) liegt, mit einer zusätzlichen Metallbedeckung des Silizids (9).
|
