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Die Erfindung betrifft einen Korrektor (10) für die Farb- und Öffnungsfehlerkorrektur bei einem Elektronenmikroskop mit im Strahlengang (7) nacheinander symmetrisch zu einer Symmetrieebene (8) angeordneten sechs Multipolelementen (1, 2, 3, 4, 5, 6), von denen alle zur Erzeugung von Quadrupolfeldern (1', 2', 3', 4', 5', 6') und das dritte (3) und vierte (4) auch zur Erzeugung von Oktupolfeldern (3'', 4'') dienen, wobei letztere gleichgerichtet und die Quadrupolfelder (1', 2', 3', 4', 5', 6') aller sechs Multipolelemente (1, 2, 3, 4, 5, 6) von einem zum nächsten um 90° gedreht und punktsymmetrisch zum Schnittpunkt der optischen Achse (11) mit der Symmetrieebene (8) sind, wobei durch das Zusammenwirken der als magnetische und elektrische Felder (3', 4') ausgebildeten Quadrupolfelder (3', 4') des dritten (3) und vierten (4) Multipolelements eine Farbfehlerkorrektur sowie mittels der Quadrupolfelder (1', 2', 3', 4', 5', 6') und der Oktupolfelder (3'', 4'') eine Öffnungsfehlerkorrektur möglich ist. Ein solcher Korrektor (10) wird erfindungsgemäß dadurch gegenüber Schwankungen der elektrischen Energieversorgung unempfindlicher, daß im Quadrupolfeld (1') des ersten Quadrupolelements (1) ein stigmatisches Zwischenbild (9) der axialen Fundamentalbahnen (xα, y&bgr;) entsteht und dieses Quadrupolfeld (1') derart eingestellt ist, daß astigmatische Zwischenbilder (12, 13) der außeraxialen Fundamentalbahnen (xγ, yδ) im Bereich der Mitte der Quadrupolfelder (3', 4') des dritten (3) und vierten Multipolelements (4) entstehen und dort auch durch die Einstellung des Quadrupolfeldes (2') des zweiten Quadrupolelements (2) die axialen Fundamentalbahnen (xα, y&bgr;) des gleichen Schnitts (x, y), in dem die Zwischenbilder (12, 13) der außeraxialen Fundamentalbahnen (xγ, yδ) liegen, jeweils ein Maximum aufweisen. |
