发明名称 Verfahren und Vorrichtung zur Erzeugung kurzwelliger Strahlung mittels einer gasentladungsbasierten Hochfrequenzhochstromentladung
摘要 Die Erfindung betrifft Verfahren und Vorrichtung zur Anregung einer kurzwellige Strahlung emittierenden gasentladungsbasierten Strahlungsquelle. Die Aufgabe, eine neue Möglichkeit zur Erzeugung kurzwelliger Strahlung mittels Strahlungsquellen auf Basis eines gasentladungserzeugten Plasmas zu finden, bei der die gegenüber der Impulsperiode unzureichende Emissionsdauer des Plasmas verbessert wird, wird erfindungsgemäßgelöst, indem zwischen zwei in einer Vakuumkammer (1) angeordneten Elektroden (2) ein Emittent durch impulsförmige Ströme ionisiert und komprimiert zu einem emittierenden Plasma (3) angeregt wird, wobei, das Plasma (3) mittels einer hochfrequenten Sequenz impulsförmiger Ströme so aufrechterhalten wird, dass eine Impulsfolgeperiode der impulsförmigen Ströme kürzer eingestellt wird als eine Lebensdauer des Plasmas (3), sodass das Plasma (3) periodisch wechselnd zwischen einem energiereichen Zustand eines emittierenden komprimierten Plasmas (31) und einem energiearmen Zustand eines relaxierenden Plasmas (32) gehalten wird, wobei für eine Anregung des relaxierenden Plasmas (32) zur Erzeugung des komprimierten Plasmas (31) eine Anregungsenergie in das relaxierende Plasma (32) eingekoppelt wird, indem die impulsförmigen Ströme Impulsfolgefrequenzen (f) zwischen 50 kHz und 4 MHz mit Impulsbreiten, die gleich der Impulsfolgeperiode sind, verwendet werden.
申请公布号 DE102010055889(A1) 申请公布日期 2012.06.21
申请号 DE20101055889 申请日期 2010.12.21
申请人 XTREME TECHNOLOGIES GMBH 发明人 SCHUERMANN, MAX CHRISTIAN, DR.;DIPPMANN, LUTZ;KLEINSCHMIDT, JUERGEN, DR.;SCHRIEVER, GUIDO, DR.
分类号 H05G2/00;H05H1/30 主分类号 H05G2/00
代理机构 代理人
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