发明名称 铬锰共掺杂ZnO稀磁半导体材料的制备方法与装置
摘要 本发明涉及脉冲磁场下铬锰共掺杂ZnO稀磁半导体材料的制备方法与装置,属于磁性半导体材料工艺技术领域。本发明方法是采用锌盐,沉淀剂及共掺杂金属盐溶液为原材料;按照沉淀剂与锌盐的摩尔比为4:1~6:1,共掺杂金属盐与锌盐的摩尔比为1:100~5:100,高压反应釜的填充度为50~80%,在水热法的基础上施加强度为1~80T(特斯拉)的脉冲磁场,在反应温度为120~400℃条件下,在反应釜中反应2~24小时,得到反应生成物,然后将产物在80~85℃下干燥10~12小时,即可得到铬锰共掺杂ZnO稀磁半导体粉体材料。本发明方法制得的铬锰共掺杂ZnO稀磁半导体粉末材料,纯度高、掺杂均匀、微观结构可控,某些工艺参数条件下制备的铬锰共掺杂ZnO稀磁半导体材料具有室温铁磁性。
申请公布号 CN102502782A 申请公布日期 2012.06.20
申请号 CN201110365869.2 申请日期 2011.11.18
申请人 上海大学 发明人 李瑛;刘聪;王世伟;薄伟强;姚俊;朱明原;胡业旻;金红明
分类号 C01G9/02(2006.01)I 主分类号 C01G9/02(2006.01)I
代理机构 上海上大专利事务所(普通合伙) 31205 代理人 顾勇华
主权项 一种脉冲磁场作用下水热法制备铬锰共掺杂ZnO稀磁半导体材料的方法,其特征在于该方法具有以下的工艺过程和步骤:a.用去离子水将锌盐(氯化锌、硝酸锌或醋酸锌可溶性锌盐)配制成0.95~1.05mol/L的锌离子溶液;配制碱性沉淀剂(氢氧化钠、氢氧化钾或氨水)溶液,浓度为1~2mol/L;配制共掺杂用铬(氯化铬、硝酸铬或醋酸铬可溶性铬盐)离子溶液,及锰(氯化锰、硝酸锰或硫酸锰可溶性锰盐)离子溶液;浓度均为0.02~0.05mol/L;其中沉淀剂与锌的摩尔比为4:1~6:1;b.取一定量的锌离子溶液、沉淀剂溶液、铬离子溶液、锰离子溶液于烧杯中,共掺杂金属离子和锌离子的摩尔比为1:100~5:100,用磁力搅拌器搅拌一段时间;将前躯体溶液移入反应釜中,填充度保持在50~80%,将反应釜密封;c.将反应釜移入加热系统中,在开始升温的同时启动脉冲磁场,磁场强度为1~80T(特斯拉);升温速率为2~10℃/分钟,升温至反应温度120~400℃后保温2~24小时,然后冷却至室温;取出产物进行抽滤分离,用去离子水和无水乙醇各洗涤数次,最后在真空干燥箱中80~85℃干燥10~12小时,即可得到铬锰共掺杂ZnO稀磁半导体粉体材料。
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