可调谐热光带通滤波器像素阵列的制作方法

摘要

本发明公开了一种可调谐热光带通滤波器像素阵列的制作方法，通过光刻、刻蚀工艺在腔体材料的正面制作热隔离柱，并利用Au/Au键合方式实现热隔离；同时利用Au薄膜的宽光谱、高反射率特性，并采用高热光系数的晶态半导体材料作为腔体实现F-P腔热光可调谐滤波器。本方法中，无需生长具有近红外波段低吸收系数的非晶硅薄膜材料，大大降低了光学膜生长难度。

主权项

一种可调谐热光带通滤波器像素阵列的制作方法，其特征在于，包括：1）选取腔体材料以及衬底材料；2）通过光刻、刻蚀工艺在腔体材料的正面制作热隔离柱；3）在腔体材料正面的非隔离柱区的刻蚀表面及热隔离柱的表面蒸镀Au金属层；4）在衬底材料表面蒸镀Au金属层；5）将腔体材料及衬底材料的Au金属层进行键合；6）刻蚀腔体材料的背面，使所述腔体材料的厚度为所用近红外检测光的1/2光学波长的整数倍；7）采用光刻、刻蚀工艺分隔腔体材料上的像素点，形成像素阵列；8）在各像素表面制备高反射率介质膜。