| 发明名称 | 薄膜及其掩模粘接剂 | ||
| 摘要 | 本发明的目的在于提供一种具有适度的柔软度且从掩模剥离后的糊残留少、处理性良好的掩模粘接剂层的薄膜；尤其在于提供一种能够抑制双图案化时的图形的位置偏差的薄膜。本发明的薄膜是具有薄膜框、配置于前述薄膜框的一端面的薄膜的膜和配置于前述薄膜框的另一端面的掩模粘接剂层的薄膜，前述掩模粘接剂层含有相对于100质量份的苯乙烯系树脂(A)为35质量份以上170质量份以下的含有聚丙烯(b1)和丙烯系弹性体(b2)的硬度调整剂(B)，在前述掩模粘接剂层的电子显微镜照片中观察到苯乙烯系树脂(A)的连续相和硬度调整剂(B)的分散相的相分离结构。 | ||
| 申请公布号 | CN102511019A | 申请公布日期 | 2012.06.20 |
| 申请号 | CN201080041077.3 | 申请日期 | 2010.10.06 |
| 申请人 | 三井化学株式会社 | 发明人 | 村上修一;河关孝志;森峰宽 |
| 分类号 | G03F1/62(2012.01)I;C08L23/12(2006.01)I;C08L25/04(2006.01)I | 主分类号 | G03F1/62(2012.01)I |
| 代理机构 | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人 | 钟晶;於毓桢 |
| 主权项 | 一种薄膜，其含有：薄膜框、配置于所述薄膜框的一端面的薄膜的膜、和配置于所述薄膜框的另一端面的掩模粘接剂层，所述掩模粘接剂层含有相对于100质量份的苯乙烯系树脂(A)为35质量份以上170质量份以下的含有聚丙烯(b1)和丙烯系弹性体(b2)的硬度调整剂(B)，在所述掩模粘接剂层的电子显微镜照片中观察到苯乙烯系树脂(A)的连续相和硬度调整剂(B)的分散相的相分离结构。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||