掩模基板信息生成方法和曝光掩模的制造方法

摘要

提供一种掩模基板信息生成方法和掩模基板的制造方法，可以解决在将掩模基板吸附到晶片曝光装置的掩模台后掩模基板的平整度恶化而引起晶片曝光装置制品成品率低的问题。该掩模基板信息生成方法，包括：取得表示掩模基板的主面的表面形状和/或平整度的第一信息的工序；取得表示由根据上述第一信息和与曝光装置的掩模吸盘的结构有关的信息进行的把上述掩模基板设置于上述曝光装置上时的模拟得到的上述主面的平整度的第二信息的工序；以及取得有关由上述模拟得到的上述掩模基板的主面的平整度是否合乎规格的信息的工序。

主权项

一种掩模基板信息生成方法，包括：取得表示多个掩模基板的主面的表面形状和平整度的第一信息的工序；取得表示由根据上述第一信息和有关曝光装置的掩模吸盘的结构的信息进行的把上述掩模基板设置于上述曝光装置上时的模拟得到的上述主面的表面形状和平整度的第二信息的工序；以及对应地存储上述掩模基板和上述第一信息和上述第二信息的工序。