发明名称 一种基于非均匀采样三维对象反射的实时绘制方法
摘要 本发明提出一种基于非均匀采样三维对象反射的实时绘制方法。在绘制的前期,先获取被反射体图像的采样模板,接着根据采样模板生成被反射体非均匀采样的变形图,最后由变形图重构的非均匀采样图像对场景中的反射效果进行绘制。自动生成采样模板的算法能实时绘制反射现象。本工作使场景中的反射绘制在整体分辨率较低即反射计算量较小的情况下更加逼真,实现了增强现实的目标。
申请公布号 CN102509344A 申请公布日期 2012.06.20
申请号 CN201110297879.7 申请日期 2011.09.30
申请人 北京航空航天大学 发明人 王莉莉;章二林;陈益;郝爱民
分类号 G06T15/50(2006.01)I 主分类号 G06T15/50(2006.01)I
代理机构 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 代理人 成金玉
主权项 一种基于非均匀采样三维对象反射的实时绘制方法,其特征在于:具体可分为以下三个步骤:(1)根据当前视点下的反射体和被反射体,手动或自动生成非均匀采样模板:所述采样模板确定一幅图像的采样点的分布,所述分布是一个不规则的二维网格图,所述不规则是指:规则的二维网格变形后,对应图像高分辨率区域的每个小网格的面积比变形前规则的二维网格图中每个小四边形面积大;对应低分辨率区域小网格的面积比变形前规则的二维网格图中每个小四边形面积小;采样模板是均匀分布的二维网格点位置发生扭曲后网格点的集合,其直接定义了每个网格点位置的改变,即图像的像素点位置将如何映射到连续非均匀采样图像中对应像素点的位置上;给定一个原始图像上非变形位置(u,v)以及一幅采样模板SM,其对应的变形位置(ud,vd)通过双线性插值的方法查找SM上(u,v)的位置得到;(2)根据生成的采样模板和被反射体的高分辨率原图像,能够重构得到被反射体的非均匀采样的图像:由步骤(1)得到一幅二维扭曲的网格图,即采样模板SM,每个网格顶点绑定的是对应的规则网格的坐标值;结合SM和给定的高分辨率的原图像,再使用mip贴图技术mipmapping,即能重构出非均匀采样的较低分辨率的变形图,变形图上每个像素点需要记录下深度值;(3)对场景中的反射体和被反射体的非均匀采样的变形图重构的非均匀采样深度图进行反射效果绘制。
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