发明名称 一种用于多晶硅铸锭坩埚的氮化硅喷涂溶液的制备方法
摘要 本发明提供了一种用于多晶硅铸锭坩埚的氮化硅喷涂溶液的制备方法,包括取氮化硅原料,加入碱液进行洗涤,搅拌,反应制得含有硅酸盐的氮化硅溶液,固液分离,碱液洗涤过程中根据氮化硅原料中含有的硅粉和二氧化硅的量调整氮化硅溶液的pH值和/或固液分离的次数,制得含有硅酸根离子的氮化硅溶液,加入过量酸液进行洗涤,搅拌,固液分离,直至氮化硅溶液的pH值与纯水的pH值接近,制得含有0.0001~10%硅酸的氮化硅溶液,进行搅拌、超声或球磨,制得用于多晶硅铸锭坩埚的氮化硅喷涂溶液。该方法成本低、应用广泛且适合大规模生产,制得的氮化硅喷涂溶液纯度高,可免烘烤喷涂在坩埚上形成与坩埚内壁紧密结合的不易脱落的氮化硅涂层。
申请公布号 CN102503545A 申请公布日期 2012.06.20
申请号 CN201110299490.6 申请日期 2011.09.28
申请人 江西赛维LDK太阳能高科技有限公司 发明人 吕东;胡动力;董一迪;刘海
分类号 C04B41/50(2006.01)I 主分类号 C04B41/50(2006.01)I
代理机构 广州三环专利代理有限公司 44202 代理人 郝传鑫;熊永强
主权项 一种用于多晶硅铸锭坩埚的氮化硅喷涂溶液的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)碱液洗涤:取氮化硅原料,加入按质量分数计为1%~50%的碱液进行洗涤,搅拌,反应制得含有硅酸盐的氮化硅溶液,固液分离,碱液洗涤过程中根据氮化硅原料中含有的硅粉和二氧化硅的量调整氮化硅溶液的pH值和/或固液分离的次数,制得按质量分数计含有0.0001~10%硅酸根离子的氮化硅溶液;(2)酸液洗涤:取按质量分数计含有0.0001~10%硅酸根离子的氮化硅溶液,加入过量酸液进行洗涤,H‑浓度控制为0.01~5mol/L,搅拌,反应制得含有硅酸的氮化硅溶液,固液分离,直至氮化硅溶液的pH值与纯水的pH值接近,制得按质量分数计含有0.0001~10%硅酸的氮化硅溶液;(3)搅拌、超声或球磨:取按质量分数计含有0.0001~10%硅酸的氮化硅溶液,进行搅拌、超声或球磨,制得用于多晶硅铸锭坩埚的氮化硅喷涂溶液。
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