发明名称 |
根据共焦显微术的基本原理的测量设备以及方法 |
摘要 |
一种用于共焦测量对象的测量设备包括:光源(1)、成像光学系统(4)和图像检测器(10)。布置装置(11),用于改变光阑装置(3)与对象(6)之间的光路中的光学路径长度,其中能以预定的方式改变像平面的光学距离;以及设置有装置,以便使由所述光源(1)发射到所述对象(6)上的光(5)和/或由所述对象(6)反射的且射到所述传感器(10)上的光(7)在曝光的曝光周期(tB1)期间在至少一个特性(强度、频率、光谱)方面受到影响,其中,在所述曝光周期(TB1)期间给出被预定为简档的、光(5,7)的特性与像平面距所述成像光学系统(4)的光学距离之间的关系;并且设置有装置,该装置为曝光周期(tB1)提供与观察光路(7)的光特性相关的测量值,其中根据曝光周期(tB1)的测量值和比较值能重建对象(6)的高度坐标(zs)。 |
申请公布号 |
CN101115970B |
申请公布日期 |
2012.06.20 |
申请号 |
CN200580047986.7 |
申请日期 |
2005.12.01 |
申请人 |
塞隆纳牙科系统有限责任公司 |
发明人 |
A·施沃特泽 |
分类号 |
G01B11/24(2006.01)I;G02B21/00(2006.01)I |
主分类号 |
G01B11/24(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
代理人 |
卢江;刘春元 |
主权项 |
一种用于共焦测量对象(6)的测量设备(27),其包括:光源(1)、用于将由所述光源(1)发射的光(5)聚焦到要测量的对象(6)上的成像光学系统(4),此外还包括针对在所述对象(6)上散射回且穿过同样的成像光学系统(4)的、目标点(6′)的光(7)的图像检测器(10),其特征在于,‑布置有用于改变一光阑装置(3)与所述对象(6)之间的光路中的光学路径长度的第一装置(11),其中,能以预定的方式改变像平面的光学距离,以及‑设置有用于影响光特性的第二装置(12,13),以便在第一曝光的曝光周期(tB1)期间使由所述光源发射到所述对象(6)上的光(5)和/或由所述对象(6)反射且射到所述图像检测器(10)上的光(7)在至少一个特性方面受到影响,其中,在所述曝光周期(tB1)期间给出被预定为简档的、由所述光源发射到所述对象(6)上的光(5)和/或由所述对象(6)反射且射到所述图像检测器(10)上的光(7)的特性与光学距离之间的相互关系,该光学距离是像平面距所述成像光学系统(4)的光学距离,以及‑设置有所述图像检测器(10),所述图像检测器(10)针对曝光周期(tB1)提供与观察光路的光的特性相关的测量值,其中,根据曝光周期(tB1)的测量值和比较值能重建对象(6)的高度坐标(zs),其中根据具有第二曝光时间(tB2)和针对所述由所述光源发射到所述对象(6)上的光(5)和/或由所述对象(6)反射且射到所述图像检测器(10)上的光(7)的特性与所述光学距离的第二简档的第二曝光来确定所述比较值。 |
地址 |
德国本斯海姆 |