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发明名称 Gas diffusion desk for Chemical Vapor Deposition Apparatus and Chemical Vapor Deposition Apparatus
摘要
申请公布号 KR101157199(B1) 申请公布日期 2012.06.20
申请号 KR20100031014 申请日期 2010.04.05
申请人 发明人
分类号 H01L21/205 主分类号 H01L21/205
代理机构 代理人
主权项
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