| 发明名称 |
PLASMA PROCESSING APPARATUS AND SLOW-WAVE PLATE USED THEREIN |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
KR20120062923(A) |
申请公布日期 |
2012.06.14 |
| 申请号 |
KR20127011200 |
申请日期 |
2010.09.29 |
| 申请人 |
TOKYO ELECTRON LIMITED |
发明人 |
OZAKI SHIGENORI;OTA RYUSAKU;ADACHI HIKARU;ISHITSUBO MAKOTO |
| 分类号 |
H01L21/205;H01L21/3065;H05H1/46 |
主分类号 |
H01L21/205 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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