发明名称 放射线敏感性树脂组合物、抗蚀图案形成方法、聚合物和聚合性化合物
摘要 一种放射线敏感性树脂组合物,其特征在于,含有具有酸解离性基团的聚合物(A)、由放射线照射而产生酸的产酸剂(B)、以及具有下述通式(x)表示的官能团和氟原子的聚合物(C),上述聚合物(C)是氟原子含量比上述聚合物(A)高的聚合物。[通式(x)中,R1表示碱解离性基团,A表示氧原子(其中,不包括直接与芳香环、羰基和磺酰基连结的氧原子)、亚氨基、-CO-O-*或者-SO2-O-*(“*”表示与R1结合的结合位点)。]——A——R1(x)。
申请公布号 CN102498439A 申请公布日期 2012.06.13
申请号 CN201080041184.6 申请日期 2010.09.17
申请人 JSR株式会社 发明人 浅野裕介;佐藤光央;中岛浩光;笠原一树;大泉芳史;堀雅史;川上峰规;松田恭彦;中原一雄
分类号 G03F7/039(2006.01)I;C08F20/26(2006.01)I;G03F7/004(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I 主分类号 G03F7/039(2006.01)I
代理机构 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人 左嘉勋;顾晋伟
主权项 一种放射线敏感性树脂组合物,其特征在于,含有:具有酸解离性基团的聚合物(A)、通过放射线照射而产生酸的产酸剂(B)、以及具有下述通式(x)表示的官能团和氟原子的聚合物(C),所述聚合物(C)为氟原子含有比例比所述聚合物(A)高的聚合物;——A——R1(x)通式(x)中,R1表示碱解离性基团;A表示氧原子,其中,不包括直接与芳香环、羰基和磺酰基连结的氧原子;‑NR’‑,其中,R’表示氢原子或碱解离性基团;‑CO‑O‑*或者‑SO2‑O‑*,“*”表示与R1结合的结合位点。
地址 日本东京都