发明名称 |
放射线敏感性树脂组合物、抗蚀图案形成方法、聚合物和聚合性化合物 |
摘要 |
一种放射线敏感性树脂组合物,其特征在于,含有具有酸解离性基团的聚合物(A)、由放射线照射而产生酸的产酸剂(B)、以及具有下述通式(x)表示的官能团和氟原子的聚合物(C),上述聚合物(C)是氟原子含量比上述聚合物(A)高的聚合物。[通式(x)中,R1表示碱解离性基团,A表示氧原子(其中,不包括直接与芳香环、羰基和磺酰基连结的氧原子)、亚氨基、-CO-O-*或者-SO2-O-*(“*”表示与R1结合的结合位点)。]——A——R1(x)。 |
申请公布号 |
CN102498439A |
申请公布日期 |
2012.06.13 |
申请号 |
CN201080041184.6 |
申请日期 |
2010.09.17 |
申请人 |
JSR株式会社 |
发明人 |
浅野裕介;佐藤光央;中岛浩光;笠原一树;大泉芳史;堀雅史;川上峰规;松田恭彦;中原一雄 |
分类号 |
G03F7/039(2006.01)I;C08F20/26(2006.01)I;G03F7/004(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/039(2006.01)I |
代理机构 |
北京集佳知识产权代理有限公司 11227 |
代理人 |
左嘉勋;顾晋伟 |
主权项 |
一种放射线敏感性树脂组合物,其特征在于,含有:具有酸解离性基团的聚合物(A)、通过放射线照射而产生酸的产酸剂(B)、以及具有下述通式(x)表示的官能团和氟原子的聚合物(C),所述聚合物(C)为氟原子含有比例比所述聚合物(A)高的聚合物;——A——R1(x)通式(x)中,R1表示碱解离性基团;A表示氧原子,其中,不包括直接与芳香环、羰基和磺酰基连结的氧原子;‑NR’‑,其中,R’表示氢原子或碱解离性基团;‑CO‑O‑*或者‑SO2‑O‑*,“*”表示与R1结合的结合位点。 |
地址 |
日本东京都 |