发明名称 |
光刻设备、投影系统和器件制造方法 |
摘要 |
本发明公开了一种光刻设备(1),包括:投影系统(7),其配置成将所述图案化的辐射束(9)投影到衬底的目标部分上;真空室(8),在使用期间所述图案化的辐射束(9)被投影通过真空室;和净化系统(13、16、17),其配置成在所述室(8)内提供净化气体流。 |
申请公布号 |
CN102495538A |
申请公布日期 |
2012.06.13 |
申请号 |
CN201210005732.0 |
申请日期 |
2008.11.18 |
申请人 |
ASML荷兰有限公司 |
发明人 |
Y·J·G·范德维基沃尔;J·H·J·莫尔斯;W·J·M·沃斯蒂格;P·G·约克斯 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
王波波 |
主权项 |
一种光刻设备,包括:照射系统,其配置成调节辐射束;支撑结构,其构造成支撑图案形成装置,所述图案形成装置能够将图案在所述辐射束的横截面上赋予所述辐射束以形成图案化的辐射束;衬底台,其构造成保持衬底;投影系统,其配置成将所述图案化的辐射束投影到所述衬底的目标部分上;真空室,在使用期间所述图案化的辐射束被投影通过所述真空室;净化系统,其配置成在所述室内提供净化气体流,其中在所述室的所述图案化的辐射束外侧的区域应用卤素净化气体流。 |
地址 |
荷兰维德霍温 |