发明名称 氧清除膜
摘要 在聚合物基质中混合的充分分散的氧清除微粒。所述氧清除制剂由平均粒径在1-25μm内并且预涂有至少一种或多种活化和酸化粉末状化合物的铁粉组成,所述粉末状化合物通常为碱金属和碱土金属的固体有机盐和无机盐形式,比如氯化钠和硫酸氢钠。使用常规的熔体处理方法(比如双螺杆挤出)将预涂的铁微粒分散在聚合物树脂中。将所述氧清除化合物与聚合物粒料固态混合,然后熔融。所述聚合物树脂粒料和经涂布的铁粉优选在干燥状态下用表面活性剂处理,以帮助用树脂粒料分散铁/盐粉末。将熔体挤出的化合物造粒并保持在干燥状态下,以防止过早活化。
申请公布号 CN102498159A 申请公布日期 2012.06.13
申请号 CN201080024962.0 申请日期 2010.03.22
申请人 多种吸附技术公司 发明人 周介俊;T·H·珀维尔;S·E·索洛尤维
分类号 C08J3/07(2006.01)I;C08J5/18(2006.01)I;C08K9/00(2006.01)I;C08J3/20(2006.01)I;A45C11/00(2006.01)I 主分类号 C08J3/07(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 李进;李炳爱
主权项 一种生产在聚合物基质中细微分散的铁/盐颗粒的方法,所述方法包括:用至少一种或多种活化和酸化粉末状组分预涂1‑25um平均粒径铁,和将该氧清除剂与聚合物固态混合,然后熔体挤出为混合物;在混合前,用表面活性剂处理粒料或铁/盐粉末。
地址 美国纽约州