发明名称 柔性衬底上卷对卷沉积吸收层用装置
摘要 本发明涉及一种柔性衬底上卷对卷沉积吸收层用装置,包括沉积薄膜室,其特点是:沉积薄膜室内壁上部架有连接变速电机带动衬底的滚轴;三个放置下面有加热器蒸发源的第一、二、三室,放置光谱仪第四室;第二、三室的衬底上方还分别置有传感器。由沉积薄膜室外面的PID控制器通过热电偶、传感器发送的信号分别控制加热器的温度调整蒸发源的蒸发速率,保证大面积吸收层薄膜厚度、成分及均匀一致性;通过调整金属元素Cu、In、Ga的蒸发顺序,使卷对卷沉积的吸收层经历从贫铜-富铜-贫铜的生长过程,提高了吸收层成分的均匀性和结晶质量;在衬底上沉积扩散有Na原子的铟镓硒缓冲层,在保证吸收层的电学性质的同时,改善了吸收层附着性。
申请公布号 CN102496565A 申请公布日期 2012.06.13
申请号 CN201110438704.3 申请日期 2011.12.23
申请人 中国电子科技集团公司第十八研究所 发明人 王赫;乔在祥;赵彦民
分类号 H01L21/203(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I 主分类号 H01L21/203(2006.01)I
代理机构 天津市鼎和专利商标代理有限公司 12101 代理人 李凤
主权项 一种柔性衬底上卷对卷沉积吸收层用装置,包括长方体状沉积薄膜室,其特征在于:所述沉积薄膜室内部包括衬底、滚轴、四个腔室、热电偶、加热板、传感器、蒸发源、光谱仪,所述沉积薄膜室外部包括变速电机、PID控制器和抽真空泵;所述两个相互平行、带动衬底行进用的滚轴架于沉积薄膜室相对应的两长壁上部;四个腔室并排于沉积薄膜室内底面上,分别作为放置蒸发源的第一室、第二室、第三室,和放置光谱仪的第四室;连接有热电偶的加热板分别位于第一室、第二室、第三室对应的衬底上方;传感器分别位于第二室、第三室对应的衬底上方;连接有热电偶的加热器分别置于第一室、第二室、第三室内每一个蒸发源的下面;第二室和第三室的衬底上方还分别置有传感器;所述变速电机与滚轴连接;所述PID控制器分别与所述热电偶、加热板、传感器、加热器和光谱仪连接;所述第一室、第二室、第三室和第四室各密封穿入一个抽真空泵,所述沉积薄膜室密封穿入抽真空泵。
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