发明名称 一种过梁式双导轨双驱步进扫描双硅片台交换装置与方法
摘要 一种过梁式双导轨双驱步进扫描双硅片台交换装置与方法属于半导体制造装备;该系统含有设置在同一基台上的运行于曝光工位的硅片台和运行于预处理工位的硅片台,基台边缘设置有4个Y方向直线运动单元和2个X方向直线运动单元,基台中间设置有2个X方向高于硅片台工作面的过梁式直线运动单元,Y方向直线运动单元通过X方向直线运动单元可以实现X方向运动,并与自身的Y方向运动滑块共同实现硅片台的X方向或Y方向的运动;本发明能够增强导轨的抗转矩干扰能力,减小或克服运动偏差和形变偏差,提高硅片台运动精度;且本本发明整个过程只有三个节拍,可缩短双台交换需要的时间,明显提高光刻机的生产效率。
申请公布号 CN102495529A 申请公布日期 2012.06.13
申请号 CN201110377867.5 申请日期 2011.11.12
申请人 哈尔滨工业大学 发明人 谭久彬;王绍凯;崔继文
分类号 G03F7/20(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I;H01L21/677(2006.01)I 主分类号 G03F7/20(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种过梁式双导轨双驱步进扫描双硅片台交换方法,其特征在于:该方法的三节拍步骤是:两硅片台交换以前,运行于曝光工位的第一硅片台由Y方向第一、四直线运动单元共同卡持,运行于预处理工位的第二硅片台由Y方向第二、三直线运动单元共同卡持,从而实现曝光和预处理所需的X‑Y运动;在曝光和预处理运动结束以后,第一节拍:Y方向第四直线运动单元与第一硅片台分离,沿X方向向与其邻近的基台边缘方向运动,第一硅片台与Y方向第一直线运动单元保持卡持状态,共同沿与Y方向第四直线运动单元相反的方向运动,同时,Y方向第二直线运动单元与第二硅片台分离,沿X方向向与其邻近的基台边缘方向运动,第二硅片台与Y方向第三直线运动单元保持卡持状态,共同沿与Y方向第二直线运动单元相反的方向运动,最终Y方向第一、二、三、四直线运动单元都到达既定位置,即Y方向第四直线运动单元与Y方向第三直线运动单元对齐形成组合导轨,Y方向第一直线运动单元与Y方向第二直线运动单元对齐形成组合导轨,整个过程中,两硅片台(11,12)运动无停顿;第二节拍:第一、二硅片台沿对齐后的组合导轨向第一、二过梁式直线运动单元的另一侧方向运动,同时,与硅片台无接触的Y方向第四、二直线运动单元的动子部分向基台边缘方向运动,为第二、一硅片台留出足够的运动空间,与硅片台无接触的第三、一直线运动单元的动子部分向基台中间方向运动,为下一步卡持第一、二硅片台做准备,第一、二硅片台运动中穿越第一、二过桥式直线运动单元,并跨越导轨对齐位置;第三节拍:第一、二硅片台分别在Y方向第二、四直线运动单元的带动下沿X方向运动,同时,Y方向第一、三直线运动单元分别沿X方向做与第一、二硅片台相对方向的运动,在此过程中,与硅片台无接触Y方向第三、四直线运动单元的动子部分与硅片台逐渐靠近直至接触并相互卡持,整个过程中,硅片台运动无停顿,换台过程结束;之后开始曝光和预处理工序运动;在曝光和预处理工序结束后,硅片台做与上述三节拍过程相逆的运动,从而实现连续的换台过程。
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