发明名称 防并压密合之华司结构
摘要 本创作系提供一种防并压密合之华司结构,特别是为避免华司在叠置状态下,发生上下密合粘滞现象,影响其出料之顺畅性与正确性而设计者;其主要是于华司基材上采一体冲制成复数片组列排片状之华司排时,亦同步由其顶面的二对角部位一体冲制出向下突出之凸点,且在华司呈复数片组列排片状之后的上、下叠置并压时,乃令华司上、下层的凸点呈错离状地位于不同方位的对角上,藉以得利用该等凸点的突出高度,使华司上、下层仅具有二点式接触而能保有预定间隙,据以能有效避免发生华司上、下层相互叠置并压而产生密合现象,使其出料时无粘滞干扰之虞,从而可维持其出料之顺畅性与准确性。
申请公布号 TWM431240 申请公布日期 2012.06.11
申请号 TW100223582 申请日期 2011.12.14
申请人 姚顺平 台中市南区树义里树义5巷56弄130号;龙浦实业股份有限公司 彰化县伸港乡中华路641号 发明人 姚顺平
分类号 F16B43/00;B25C1/00 主分类号 F16B43/00
代理机构 代理人
主权项
地址 彰化县伸港乡中华路641号