发明名称 |
包括有回应直流偏压之控制的真空电浆处理器 |
摘要 |
一电浆处理腔室包含一底电极及一顶电极总成具有一电极被一接地电极所包围。于该等电极之间的RF激发电浆会在其上生成一DC偏压。该底电极DC偏压的检测可控制一连接于该电极和接地间之一第一串连共振电路的电容。而该电极DC偏压的检测可控制一连接于该底电极和接地间之一第二串连共振电路的电容。 |
申请公布号 |
TWI366420 |
申请公布日期 |
2012.06.11 |
申请号 |
TW094117040 |
申请日期 |
2005.05.25 |
申请人 |
兰研究公司 美国 |
发明人 |
德海德莎 拉金德;柯扎凯维斯 费利克斯;楚瑟尔 大卫 |
分类号 |
H05H1/00;H01J37/00 |
主分类号 |
H05H1/00 |
代理机构 |
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代理人 |
恽轶群 台北市松山区南京东路3段248号7楼;陈文郎 台北市松山区南京东路3段248号7楼 |
主权项 |
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地址 |
美国 |