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发明名称
电浆处理装置
摘要
一种电浆处理装置,包含一真空腔、一上电极、一下电极及一基座。上电极与下电极系设置于真空腔内。真空腔具有一底部,而基座设置于真空腔之底部,下电极则设置于基座上。基座与真空腔之底部形成一基座空间,而基座空间内之气流与真空腔之气流实质上隔绝。
申请公布号
TWI366231
申请公布日期
2012.06.11
申请号
TW096126899
申请日期
2007.07.24
申请人
友达光电股份有限公司 新竹市新竹科学工业园区力行二路1号
发明人
郑志兴;罗时朋;陈振松;谢宗桦;赖宏裕
分类号
H01L21/3065
主分类号
H01L21/3065
代理机构
代理人
蔡玉玲 台北市大安区敦化南路2段218号5楼A区
主权项
地址
新竹市新竹科学工业园区力行二路1号
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