| 摘要 |
本发明是关于一种Al基合金溅镀靶，含有0.05至10原子百分比之Ni，其中当依据电子背散射绕射图案法(electron backscatter diffraction pattern method)观察该Al基合金溅镀靶之溅镀表面法线方向的结晶学配向<001>、<011>、<111>、及<311>时，该Al基合金溅镀靶符合下列条件：(1)P值对溅镀表面总面积之比例为70%或以上，其中该P值意指<001>±15°、<011>±15°、<111>±15°、及<311>±15°之面积分率的总和；(2)<011>±15°之面积分率对P值的比例为30%或以上；及(3)<111>±15°之面积分率对P值的比例为10%或以下。 |
